Akademik Veri Yönetim Sistemi
KLINIK PSIKIYATRI DERGISI, cilt.26, sa.4, ss.300-308, 2023 (ESCI)
Amaç: OKB tanılı hastalarda ve sağlıklı kontrollerde hem plazma hem de eritrosit de, Total Oksidan Seviye (TOS),
Total Antioksidan Seviye (TAS), Oksidatif Stres İndeksi (OSİ), Tiyol/Disülfid düzeyleri, Plazmada Malondialdehit
(MDA) düzeyini sağlıklı kontroller ile karşılaştırmayı amaçladık. Yöntem: Çalışmamıza OKB tanılı 47 hasta ve 49
sağlıklı kontrol dahil edildi. Tüm katılımcılara sosyodemografik veri formu, hasta grubuna KGİ ve YBOKÖ
uygulandı. TAS, TOS ölçümleri hem plazma hem eritrosit içinde, Malondialdehid (MDA), Tiyol/Disülfit ölçümleri
ise sadece plazmada yapıldı. Bulgular: Hasta ve kontrol grubu plazmada TAS, TOS, OSİ ve MDA değerleri
açısından karşılaştırıldığında istatistiksel olarak anlamlı farklılık saptanmadı. Ancak hasta grubunda eritrosit TAS
düzeyi kontrol grubuna göre düşük (p<0.05), OSI düzeyi ise yüksekti (p<0.05). Hasta grubunda plazma total
tiyol düzeyinde kontrollere göre farklılık gözlenmezken, plazma native tiyol düzeyleri anlamlı derecede daha
yüksek (p<0.001), plazma disülfit düzeyi ise anlamlı derecede daha düşüktü (p<0.05). Sonuç: Plazmada antioksidan bir molekül olan native tiyol düzeyinin OKB hastalarında yüksek olması eritrosit içinde azalan antioksidan
kapasiteyi kompanze etme çabası olarak yorumlanabilir. Bu sonuçlara göre OKB gibi psikiyatrik hastalıklarda
oksidatif stres parametreleri değerlendirilirken plazma total oksidan kapasite yanında tiyol/disülfit oranının da
çalışılmasının önemli olduğu ayrıca sadece plazma değil eritrosit içinde de bu parametrelerin ölçülmesinin
uygun olacağını düşünmekteyiz.
Anahtar Kelimeler: Obsesif Kompulsif Bozukluk, oksidatif stres, tiyol, disülfid, tiyol/disülfid dengesi
Objective: We aimed to compare Total Oxidant Level (TOL), Total Antioxidant Level (TAL), Oxidative Stress Index
(OSI), Thiol/Disulfide levels, Plasma Malondialdehyde (MDA) levels in both plasma and erythrocyte patients with
OCD and healthy controls. Method: Our study included 47 patients with OCD and 49 healthy controls.
Sociodemographic data form was applied to all participants, CGI and Y-BOCS were applied to the patient group.
TAL and TOL measurements were made in both plasma and erythrocytes, and Malondialdehyde (MDA) and
Thiol/Disulfide measurements were made only in plasma. Results: TAL, TOL, OSI and MDA values in the plasma
of the patient and control groups were compared, no statistically significant difference was found. However,
erythrocyte TAS level was lower in the patient group (p<0.05) and OSI level was higher (p<0.05) in the patient
group. While no difference was observed in plasma total thiol level in the patient group compared to the controls, plasma native thiol levels were significantly higher (p<0.001) and plasma disulfide levels were significantly
lower (p<0.05). Conclusion: The high level of native thiol, an antioxidant molecule in plasma, in OCD patients
can be interpreted as an effort to compensate for the decreased antioxidant capacity in erythrocytes. According
to these results, we think that when evaluating oxidative stress parameters in psychiatric diseases such as OCD,
it is important to study the thiol/disulfide ratio as well as the total oxidant capacity of the plasma, and it would
be appropriate to measure these parameters not only in the plasma but also in the erythrocyte.
Key Words: Obsessive compulsive disorder, oxidative stress, thiol, disulfide, thiol/disulfide balance